产品概述

旭化成（Asahi Kasei）BL301 光刻胶 是一款高性能、负性干膜光刻胶，专为半导体、微电子及 MEMS 微细结构加工设计。凭借优异的解析度和耐蚀刻能力，BL301 可满足精密图形转移要求，适合先进微纳加工工艺。

核心技术特点

• 高分辨率：可实现 0.5 μm 以下微细图形，适合先进半导体封装和 MEMS 工艺。
• 耐蚀刻性强：优异的干膜稳定性，对常用干法和湿法蚀刻工艺具有良好耐受性。
• 加工灵活：曝光宽容度高，显影速度稳定，可适应多种曝光设备（UV/Laser）。
• 环境适应性：在温湿度变化条件下仍保持图形精度，适合高可靠性电子产品。

典型应用

• 半导体芯片微细图形制作
• MEMS 微机电系统图案转移
• 高精度 PCB 或微电子器件图形加工
• 光学微结构及精密传感器制作

使用建议

1. 基材准备：确保表面清洁干燥，避免灰尘和油污。
2. 涂胶：使用旋涂或浸涂工艺，控制厚度均匀。
3. 曝光：根据设备波长选择合适曝光剂量。
4. 显影：使用推荐显影液，避免过度显影导致图形损伤。
5. 后处理：根据工艺需求进行烘烤或蚀刻。

旭化成（Asahi Kasei）BL301 FAQ：

Q1：BL301 光刻胶适用于哪种基材？
A1：可用于硅片、玻璃、陶瓷等常见半导体基材。

Q2：BL301 与其他负性光刻胶相比有什么优势？
A2：解析度高、耐蚀刻性优异，并且曝光宽容度大，适合多种微细加工工艺。

Q3：是否支持 MEMS 或微机电系统加工？
A3：支持，可实现高精度微结构图形转移。

供应支持
艾锐孚（上海）新材料科技有限公司可供应 旭化成 PIMEL BL-301 光刻胶，用于高精度半导体及微细加工工艺。

可提供支持：报价、货期、批次信息、TDS、SDS、COA、样品及批量采购服务。

如需了解 旭化成 PIMEL BL-301 光刻胶 或相关高精度半导体微细加工材料，欢迎联系 艾锐孚（上海）新材料科技有限公司

• 公司名称：艾锐孚（上海）新材料科技有限公司
• 产品名称：旭化成 PIMEL BL-301 光刻胶
• 应用方向：半导体微细加工 / MEMS / PCB 微结构 / 光学微结构
• 资料支持：TDS / SDS / COA
• 邮箱：arf1678@163.com